分類:?雙面檢測同軸顯微鏡 發(fā)布時間:2024-09-24 2269次瀏覽
HCM系列同軸顯微鏡是為半導體后端檢測晶圓刻字偏移、易拉罐開啟口壓痕殘余厚度、通孔垂直偏差、新能源電池防爆片刻痕、MEMS結構重合偏差檢查等專門研發(fā)的?款?具設備,可分別或同時觀察物體的表面和底面圖像,并對兩圖像進行比較,還可以通過測量工具測量兩圖像(表面和底面)的偏差,可選配多種圖采集像模塊,滿足不同需求, 放大倍率50X~1000X。
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HCM系列同軸顯微鏡是為半導體后端檢測晶圓刻字偏移、易拉罐開啟口壓痕殘余厚度、通孔垂直偏差、新能源電池防爆片刻痕、MEMS結構重合偏差檢查等專門研發(fā)的?款?具設備,可分別或同時觀察物體的表面和底面圖像,并對兩圖像進行比較,還可以通過測量工具測量兩圖像(表面和底面)的偏差,可選配多種圖采集像模塊,滿足不同需求, 放大倍率50X~1000X。
產(chǎn)品詳情
一、產(chǎn)品概述
高精度:先進的光學傳感器,高性能光學組件和線性編碼器確保測量數(shù)據(jù)遵循標準。
操作便捷:人性化的操作理念以及人體工學設計。
便捷的自動化測量:無需用戶干預的自動化檢測滿足工業(yè)生成需求。
穩(wěn)固的機械機構:充分考慮工業(yè)現(xiàn)場環(huán)境的結構設計保證了高水平的重復性精度。
高度靈活:模塊化的硬件、功能強大的軟件方案。
高密度拼接:使用高密度拼接功能、多幅圖像可以拼接擴展為一幅大視野全景圖像。
定制化測量方式:支持自定義測量程序,幫助客戶輕松實現(xiàn)自動化定制測量和專項分析。
二、產(chǎn)品檢測原理
本產(chǎn)品是基于光學焦點檢測法設計的非接觸式測厚系統(tǒng)。該方法是通過將上下顯微鏡光學系統(tǒng)與分別包含單個聚焦指示器的聚焦單元相結合而開發(fā)的。由于它是一個光學系統(tǒng),用戶可以很容易地操作它。此外,隨著焦點的銳化,目標標記清晰地顯示在監(jiān)視器上。
三、產(chǎn)品應用
四、技術參數(shù)
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