上海奧林巴斯正置金相顯微鏡
分類：奧林巴斯金相顯微鏡 發(fā)布時間：2020-07-03 16176次瀏覽
奧林巴斯顯微鏡BX3M系列采用了模塊化設計，為廣泛的材料學和工業(yè)應用提供了多樣化的解決方案。BX3M增強了與奧林巴斯Stream軟件的集成性，從而為常規(guī)顯微鏡檢查和數(shù)碼成像用戶提供了從觀察到報告創(chuàng)建的無縫工作流程。
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上海奧林巴斯正置金相顯微鏡
奧林巴斯顯微鏡BX3M系列采用了模塊化設計，為廣泛的材料學和工業(yè)應用提供了多樣化的解決方案。BX3M增強了與奧林巴斯Stream軟件的集成性，從而為常規(guī)顯微鏡檢查和數(shù)碼成像用戶提供了從觀察到報告創(chuàng)建的無縫工作流程。
產(chǎn)品詳情
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| 用于旋轉(zhuǎn)電動物鏡轉(zhuǎn)換器的手動開關(guān) | 手動控制器 | 曝光按鈕 |
專為圖像分析而設計的系統(tǒng)
可恢復顯微鏡設置：編碼硬件
BX3M采用了新的編碼功能，將顯微鏡的硬件設置與奧林巴斯Stream圖像分析軟件整合在一起。觀察方法、照明強度和物鏡位置全都記錄在軟件和/或手動控制器里。編碼功能可實現(xiàn)顯微鏡設置與每幅圖像一起自動保存，從而可輕松完成此后的還原設置，以及為報表提供文檔記錄。既節(jié)省了操作者的時間，又很大程度地減小了使用不正確設置的概率。當前的觀察設置總是清晰地顯示在手動控制器和軟件上。
| 操作步驟 | 操作A 操作B |
| 不同的操作者使用不同的設置 |  |
| 易于驗證正確的設置 |  |
| 使觀察設置保持同步 |  |
| 盡管操作者不同，但設置相同 |  |
針對各種檢查和分析任務的功能
MIX觀察：讓未見變?yōu)榭梢?/span>
BX3M的MIX觀察技術(shù)組合了明場和暗場照明方法。MIX照明滑塊中的LED光源，以定向暗場光線照射樣品。這種方式類似于傳統(tǒng)暗場照明，但又可為LED的不同角度光線照射提供四分象限選擇功能。這種定向暗場與明場、熒光、或偏光的組合稱為MIX照明，有助于突出顯示缺陷和區(qū)分隆起與凹陷表面。
傳統(tǒng)的
明場將光線直接照射在樣品上，暗場則使光線沿物鏡的周圍從側(cè)面照射樣品，突出顯示了劃痕和缺陷。
先進的
MIX觀察是通過一個環(huán)形LED光源來形成明場、熒光或偏光與定向暗場的組合。可以調(diào)節(jié)LED光源，選擇從哪個方向進行照明。該方法可在傳統(tǒng)方法無法觀察的表面上獲得獨特的對比度并可突出表面特征。
即時MIA：輕松移動載物臺即可進行全景拍攝
即時MIA：輕松移動載物臺即可進行全景拍攝
現(xiàn)在不需要電動載物臺，僅僅移動手動載物臺上XY旋鈕即可方便而快捷地拼接圖像。奧林巴斯Stream軟件采用圖案識別技術(shù)來生成全景圖像，為用戶提供了比單一畫面更廣闊的視野。
一枚硬幣的即時MIA圖像。
EFI：創(chuàng)建超景深圖像
奧林巴斯Stream軟件的景深擴展成像（EFI）功能能夠獲取高度超過物鏡焦深的樣品圖像，把通過不同焦面的圖像疊加在一起，創(chuàng)建出一幅超景深圖像?？梢允褂檬謩踊螂妱覼軸機構(gòu)來執(zhí)行EFI，并可創(chuàng)建一幅高度圖，以輕松地識別樣品結(jié)構(gòu)。也可以用Stream桌面版在離線時創(chuàng)建EFI圖像。
HDR：同時捕捉高光和暗調(diào)區(qū)域的細節(jié)
高動態(tài)范圍（HDR）使用了先進的圖像處理技術(shù)，能夠針對一幅圖像內(nèi)的亮度差異進行調(diào)節(jié)，從而減少了眩光。HDR改善了數(shù)字圖像的視覺效果，從而為用戶制作報告時提供專業(yè)的圖像。
借助HDR功能，同時清晰呈現(xiàn)出高光和暗調(diào)區(qū)域的細節(jié)
（樣品：燃油噴射器）
借助HDR功能，增強了對比度
（樣品：鎂切片）
可調(diào)整滿足觀察和分析的偏好要求
觀察方法的選擇范圍寬廣
反射光顯微鏡應用于各行各業(yè)。以下僅為一些通過不同觀察方法獲得的效果示例，如明場(BF)、 暗場(DF)、微分干涉差(DIC)、偏光(PL)、熒光(FL)、紅外(IR)、和透射光(TL)。
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| DF(示例: 表面貼裝基板） | DIC(示例:球墨鑄鐵腐蝕檢測） | PL(示例: 絹云母) |
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| FL(示例: 半導體晶圓上的顆粒異物) | IR(示例:電極切片) | TL(示例: LCD彩色濾光片) |
常規(guī)或基礎測量功能
通過奧林巴斯Stream軟件可以實現(xiàn)多種測量功能，從而使用戶可以很輕松地從圖像中獲取有用的數(shù)據(jù)。在質(zhì)量控制和檢查時常常需要對圖像進行測量。所有級別的奧林巴斯Stream 授權(quán)軟件都包括了交互式的測量功能，比如距離、角度、矩形、圓、橢圓和多邊形。所有測量結(jié)果都與圖像文件一起保存，用于今后的文件檢索。
計數(shù)和測量
目標探測和尺寸分布測量，是數(shù)碼圖像中重要的應用。Stream軟件使用閾值分割方法進行目標探測，能夠可靠地從背景中分離目標（比如顆粒、劃痕）。
材料解決方案
奧林巴斯Stream軟件提供了基于工作流程的直觀界面，可用于復雜的圖像分析。點擊按鈕即可快速、準確地執(zhí)行復雜的圖像分析任務，并且符合常用的工業(yè)標準。由于明顯減少了重復任務的處理時間，因此材料學家們可以專注于分析和研究。還能夠在任何時候方便地添加用于夾雜物和標準評級圖對比的模塊化插件。
悠久歷史的光學技術(shù)
優(yōu)異的光學性能：波像差控制
使用顯微鏡進行研究或系統(tǒng)集成時，所有物鏡的光學性能須標準化。奧林巴斯的UIS2物鏡提供了波像差控制，很大程度減小了會降低分辨率的像差，從而獲得數(shù)值孔徑（NA）和工作距離（WD）性能指標。
穩(wěn)定的色溫和高強度白光LED照明
BX3M為反射光和透射光照明提供了高強度的白光LED光源。無論強度是多少，LED都保持著一致的色溫。LED提供了優(yōu)異而長壽命的照明，是材料學檢測應用的理想工具。
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| 通過鹵素燈獲得的高光強和低光強 | 通過LED獲得的高光強和低光強 |
實現(xiàn)先進性能的高品質(zhì)
支持測量：自動校準
類似于數(shù)碼顯微鏡，使用奧林巴斯Stream軟件時也能夠?qū)嵤┳詣有?。自動校準消除了校準過程中的人為變化因素，能夠獲得更可靠的測量結(jié)果。自動校準的算法采用多個測量點的平均值來自動計算正確的校準量。這就很大程度減小了不同操作者產(chǎn)生的差異，保持了一致的準確性，提高了定期驗證的可靠性。
無縫拼接：圖像陰影校正
可以用奧林巴斯Stream軟件完成陰影校正，以補償圖像角落四周的陰影。使用光強閾值設置時，陰影校正提供了更準確的分析。此外，使用MIA拼接圖像時，可以獲得更均勻的全景圖像。
1 x 3 MIA圖像 (示例:薄膜濾色片上的殘留)
左側(cè)圖片：圖像拼接時，原始圖像拼接處有陰影
右側(cè)圖片：陰影校正后，整個視野照明均勻
材料科學和工業(yè)應用的配置圖例
BBX53M反射和反射/透射光組合
BX3M系列有兩種顯微鏡機架，一種僅用于反射光，一種用于反射光和透射光組合。兩種機架都可配置手動、編碼或電動部件。機架都配備有保護電子樣本的ESD防靜電功能。
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| BX53MRF-S配置圖例 | BX53MTRF-S配置圖例 | BX53MIR觀察 |
IR物鏡可用于透過硅材料成像，進行半導體檢查和測量。配備了5倍到100倍紅外（IR）物鏡，提供了從可見光波長到近紅外的像差校正。對于高放大倍率的觀察，轉(zhuǎn)動LCPLN-IR系列的校正環(huán)就可校正由樣品厚度導致的像差。使用一個物鏡即可獲取清晰的圖像。
BX53M偏光組合
BX53M偏光顯微鏡可實現(xiàn)高對比度的偏光成像，是地質(zhì)學家的理想之選。比如礦物鑒定、晶體光學特性的分析和巖石薄片的鑒定等各種研究，都得益于穩(wěn)定的顯微鏡系統(tǒng)和光學系統(tǒng)。
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| BX53-P正像鏡檢配置 | BX53-P錐光鏡檢/正像鏡檢配置 |
用于錐光鏡檢和正像鏡檢的勃氏鏡
采用U-CPA錐光觀察附件使錐光鏡檢和正像鏡檢之間的切換簡單而快捷?？梢郧逦貙购蠼蛊矫娴母缮鎴D樣。勃氏鏡的視場光闌使其能夠始終獲取銳利而清晰的錐光圖像。
種類豐富的補色器和波長板
提供了六種不同的補色器，用于測量巖石和礦物薄片的雙折射。測量光程差水平范圍從0到20λ。針對更方便的測量和高圖像反差，可以使用Berek和 Senarmont補色器，它們能在整個視場內(nèi)改變光程差級別。
補色器的測量范圍
*R= 光程差水平
對于大多數(shù)準確測量，建議補色器（除U-CWE2以外）與干涉濾色片45-IF546組合使用。
無應力光學元件
UPLFLN-P無應力物鏡得益于奧林巴斯的設計和制造技術(shù)，將內(nèi)部應力降到了極低。這就意味著更高的EF值，從而可以得到優(yōu)異的圖像反差。
BXFM系統(tǒng)
BXFM適合于特殊應用，或整合進其它儀器中。模塊化結(jié)構(gòu)，再加上各種特殊的小型照明器和固定裝置，使其可以直接用于獨特的環(huán)境和配置。
模塊化設計，構(gòu)建自己的系統(tǒng)
顯微鏡機架
兩種顯微鏡機架可用于反射光；一種還具有透射光觀察能力。同時配備了一個適配器，以抬升照明器，適應更高的樣品。
支架
顯微鏡檢查時如果樣品不適合放在載物臺上，可以在更大的支架上或其它設備上安裝照明器和光學元件。
鏡筒
使用目鏡進行顯微鏡成像，或通過相機觀察時，請根據(jù)觀察過程中的成像類型和操作者的觀察姿勢選擇鏡筒。
照明器
照明器根據(jù)選擇的觀察方法將光線投射到樣品上。軟件與編碼照明器配套使用，可以讀出分光鏡組件的位置，并自動識別觀察方法。
光源
用于樣品照明的光源和電源，請根據(jù)觀察方法選擇合適的光源。
物鏡轉(zhuǎn)換器
物鏡和滑塊的附件。選擇所需的物鏡數(shù)量和類型；以及是否帶滑塊附件。
滑塊
選擇DIC滑塊來補充常規(guī)的明場觀察。采用DIC滑塊后，在獲取有關(guān)樣品的立體形貌信息時，可以選擇高對比度型或高分辨率型。MIX照明使用起來非常靈活，它在暗場光路中提供了分區(qū)的LED光源。
控制盒與手動控制器
控制盒用于組合使用顯微鏡硬件與PC，手動控制器用于硬件狀態(tài)顯示與控制。
載物臺
用于放置樣品的載物臺和載物臺板。根據(jù)樣品形狀和尺寸進行選擇。
相機適配器
用于照相觀察的適配器。可從要求的視野和放大倍率中選擇。使用以下公式可以計算實際的觀察范圍：
實際視野（對角線mm）=視野（視場數(shù)）÷ 物鏡放大倍率。
目鏡
用于直接觀察顯微鏡的目鏡。根據(jù)所需的視野進行選擇。
濾色片
光學濾色片可以將照射到樣品的光線進行各種類型的轉(zhuǎn)換。根據(jù)觀察需要選擇合適的濾色片。
聚光鏡
聚光鏡能會聚和聚焦透射光線。用于透射光觀察。
分光鏡組件
用于BX3M-URAS-S的分光鏡組件。根據(jù)所需的觀察進行選擇。
中間鏡筒
用于多種目的的各種類型的附件。在鏡筒與照明器之間使用。
更多信息
1 | U-CA | 變倍器（1倍，1.25倍，1.6倍，2倍） |
2 | U-ECA | 變倍器（1倍，2倍） |
3 | U-EPA2 | 眼點調(diào)節(jié)器: + 30 mm |
4 | U-DP | 用于U-DP1XC的雙口鏡筒 |
5 | U-DP1xC | 用于U-DP的C-接口TV相機適配器 |
6 | U-TRU | 三目中間鏡筒 |
UIS2物鏡
物鏡可以放大樣品。選擇與工作距離、分辨率和使用的觀察方法相匹配的物鏡。
BX53MTRF-S | BX53MRF-S | BXFM | ||
光學系統(tǒng) | UIS2光學系統(tǒng)（無限遠校正） | |||
顯微鏡機架 | 照明 | 反射/透射 | 反射 | |
對焦 | 行程：25 mm | 行程：30 mm | ||
樣品高度上線 | 35 mm (不含高度適配器) | 65 mm (不含高度適配器) | 取決于安裝配置 | |
觀察筒 | 寬視野FN22 | 倒像：雙目、三目、傾斜式雙目 | ||
超寬視野FN26.5 | 倒像：三目 | |||
反射光照明 | 常規(guī)觀察技術(shù) | BX3M-RLAS-S | ||
- | U-KMAS | |||
熒光 | BX3M-URAS-S | |||
透射光 | 白光LED | - | ||
物鏡轉(zhuǎn)換器 | 用于BF | 六孔，對中六孔，七孔，編碼五孔（選配電動物鏡轉(zhuǎn)換器） | ||
用于BF/DF | 六孔，五孔，對中五孔，編碼五孔（選配電動物鏡轉(zhuǎn)換器） | |||
載物臺 | 同軸左手（右手）操作載物臺： | - | ||
重量 | 大約18.3 kg | 大約15.8 kg | 大約11.1 kg | |
奧林巴斯顯微鏡BX53M系列標準配置參數(shù)
BX53規(guī)格（用于偏光觀察）
BX53MTRF-S | ||
偏光中間附件 | 寬視野FN22 | 倒像：雙目、三目、傾斜式雙目 |
勃氏鏡 | 可對焦（僅適用于U-CPA） | |
勃氏鏡視場光闌 | 直徑?3.4mm（固定）（僅適用于U-CPA） | |
切換正像鏡檢和錐光鏡檢時加入或退出勃氏鏡 | 滑塊位置 ● 進入 | |
檢偏鏡插槽 | 旋轉(zhuǎn)式檢偏鏡插槽（U-AN360P-2） | |
檢偏鏡（U-AN360P-2） | 可旋轉(zhuǎn)360°的撥盤 | |
對中式物鏡轉(zhuǎn)換器（U-P4RE） | 四孔，附對中裝置：1/4λ偏振片(U-TAD)， | |
載物臺（U-SRP） | 帶3點對中功能的偏光專用旋轉(zhuǎn)載物 | |
聚光鏡（U-POC-2） | 消色差無應力聚光鏡（U-POC-2），帶外擺式消色差頂部透鏡的可旋轉(zhuǎn)360°起偏鏡。 | |
重量 | 大約16.2 kg（顯微鏡機架7.6 kg） | |
BX53M/BXFMESD裝置
部件 | 顯微鏡機架：BX53MRF-S, BX53MTRF-S |
奧林巴斯正置上海金相顯微鏡BX53M系列拍照效果圖：
 |  |
| 5X奧林巴斯暗場 | 5X奧林巴斯明場 |
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| 10X奧林巴斯暗場 | 10X奧林巴斯明場 |
 |  |
| 20X奧林巴斯暗場 | 20X奧林巴斯明場 |
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| 50X奧林巴斯暗場 | 50X奧林巴斯明場 |
 |  |
| 100X奧林巴斯暗場 | 100X奧林巴斯明場 |
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